窥孔掩模英文解释翻译、窥孔掩模的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【计】 peephole mask

【化】 peephole; spy hole

【计】 masking

窥孔掩模（Peephole Mask）是集成电路制造领域中的关键工艺装备，指在光刻工序中用于选择性遮挡光线的精密模板。该术语由"窥孔"（peephole）与"掩模"（mask）复合构成，其中"窥孔"特指模板上的微米级透光孔阵列，"掩模"则指通过遮挡实现图形转移的功能特性。

在半导体制造过程中，窥孔掩模通过以下两种核心机制发挥作用：

该技术主要应用于动态随机存储器（DRAM）的三维结构刻蚀，以及FinFET晶体管的鳍片成形。加州大学伯克利分校微纳制造实验室的研究表明，现代窥孔掩模可包含超过10亿个调控单元，支撑5纳米以下制程的产业化应用。

行业标准规范参照国际半导体技术路线图（ITRS）中关于光学临近修正（OPC）的技术细则，其材料多采用熔融石英基板镀铬膜层结构，热膨胀系数需控制在0.05ppm/℃以内（SEMI标准F32-1109）。

“窥孔掩模”是一个组合词，需拆解分析其含义：

窥孔
根据、、等来源，窥孔指一种透明的长方形窗口或嵌块，用于观察密闭空间内的物质或过程（如工业炉、检测设备）。其核心功能是在封闭环境中提供可视化通道，例如高温炉的观察口或光学仪器的检测窗。
掩模
在技术领域（如半导体、光学工程），掩模（Mask）通常指带有特定图案的模板，用于遮挡或选择性地透过光线、粒子等。例如光刻掩模用于芯片制造的图案转印。
组合含义推测
“窥孔掩模”可能指一种兼具观察窗口与遮挡功能的装置，常见于以下场景：
- 工业检测：掩模上设置窥孔，用于遮挡非检测区域的同时，通过窗口实时观察目标（如高温反应过程）；
- 光学系统校准：通过掩模的窥孔进行局部透光，辅助设备对准或参数调整（参考提到的“发光点利用自然光包围窥孔”）；
- 特殊工艺处理：在需要密闭操作的流程中，掩模既定义加工区域，又允许通过窥孔监控内部状态。
补充说明
该词暂无标准化定义，具体含义需结合上下文。若涉及技术文档，建议进一步查阅相关领域资料，或联系使用该术语的具体设备说明。