vapor deposition是什麼意思，vapor deposition的意思翻譯、用法、同義詞、例句

常用詞典

蒸鍍；汽相澱積

By contrast, the physical vapor deposition.

與之相對的是物理氣相沉積。

Uses: sputtering target, physical vapor deposition, high temperature alloys.

濺射靶材、物理氣相沉積、高溫合金。

The methods of preparing diamond films by chemical vapor deposition were reviewed.

評述了金剛石薄膜的化學氣相沉積方法。

The carbon nanotubes were synthesized by the heat filament chemical vapor deposition.

研究所用的碳納米管是用熱燈絲化學氣相沉積法合成的。

High quality diamond thin films were grown by hot-filament chemical vapor deposition.

采用熱絲化學氣相沉積生長出優異的金剛石薄膜。

|vapor phase deposition;蒸鍍；汽相澱積

Vapor Deposition（氣相沉積）是一種材料表面處理技術，通過氣态前驅體在基底材料表面形成固态薄膜或塗層的工藝。該技術廣泛應用于半導體、光學器件、航空航天等領域，主要分為物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）兩類：

物理氣相沉積（PVD）
通過物理方法（如蒸發、濺射）将固态材料轉化為氣态，隨後冷凝沉積在基底表面。例如，磁控濺射技術用于制備高純度金屬薄膜。PVD技術因其低溫工藝特性，適用于對熱敏感的材料加工。
化學氣相沉積（CVD）
利用氣态前驅體在高溫或等離子體條件下發生化學反應，生成固态産物并沉積。例如，碳化矽（SiC）塗層通過甲烷和矽烷反應生成，用于增強材料耐磨性。CVD可制備複雜形狀的均勻塗層，在集成電路制造中至關重要。

應用領域包括：

權威參考來源：

Vapor Deposition 是一種材料表面處理技術，指通過氣相狀态将物質沉積到基底表面形成薄膜或塗層的過程。以下是詳細解釋：

定義與分類
- 定義：通過物理或化學方法使材料在氣相中傳輸并沉積于基底表面，形成薄膜或塗層的技術。
- 主要分類：
  - 物理氣相沉積（PVD）：利用物理過程（如蒸發、濺射等）将材料氣化後沉積，常用于金屬、陶瓷薄膜制備。
  - 化學氣相沉積（CVD）：通過化學反應生成固态沉積物，適合複雜形狀和高純度薄膜，如半導體材料。
典型應用
- 工業領域：制造耐磨、耐腐蝕塗層（如刀具、模具表面處理）。
- 電子技術：半導體器件、太陽能電池的薄膜制備。
- 光學與裝飾：鏡片鍍膜、裝飾性塗層（如手表、首飾）。
技術特點對比
- PVD：低溫工藝，適合熱敏感基底；薄膜附着力強，但沉積速率較低。
- CVD：高溫工藝，沉積速率高，可形成均勻薄膜，但能耗較高。
擴展概念
- 汽相沉積（Vapor Phase Deposition）是廣義術語，涵蓋PVD和CVD。
- 反義詞可理解為“液相沉積”或“固态沉積”，但實際技術中無嚴格對立概念。

如需更深入的技術參數或案例，可參考來源網頁（如、4、6、7）的完整内容。