n. 毫微光刻
Our home made scanning tunneling microscope (STM) is utilized to study the nanolithography of graphite surface.
利用自制的掃描隧道顯微鏡(STM)，進行了石墨表面的納米級加工研究。
The core-shell gold nanoparticle film is fabricated by using nanolithography and self-assembly monolayer technology.
采用納米模闆印刷術和自組裝單層膜技術制造了芯殼結構的金納米粒子膜。
The fabrication of nanostructures, an important part of nanotechnology, is based upon nanolithography which will be widely employed in the future.
納米光刻技術是制作納米結構的基礎，具有重要的應用前景。
The basic principle, application and new progress of nanolithography based on scanning probe microscopy, are described in this review. Then, the tendency of the research is proposed.
本文介紹了掃描探針納米加工技術的基本原理、應用前景和最新進展，并讨論了該技術的發展趨勢。
A general approach for fabricating metallic and semiconducting nanostructures has been developed based on dip pen nanolithography combined with electrochemical reduction of water soluble salts.
本文提出了一種基于“沾筆”納米刻蝕和電化學還原技術在表面上制備金屬及半導體納米結構的普適性方法。
Nanolithography（納米光刻技術）是一種在納米尺度（通常為1-100納米）下進行圖案化加工的關鍵技術，主要用于半導體芯片制造、納米器件研發和材料科學領域。其核心原理是通過物理或化學手段，在基底材料表面精确制備微納結構，以實現電子元件的高密度集成或功能材料的定制化設計。
當前該領域面臨衍射極限突破、設備成本控制（如EUV光刻機單價超1.5億美元）和量産一緻性三大核心難題。國際半導體技術路線圖（ITRS）指出，未來3D納米光刻與自組裝技術的結合将成為重要發展方向。
（注：因未提供具體搜索結果，示例引用來源編號、、為模拟标注格式，實際内容需依據真實文獻補充具體引用來源。）
nanolithography 是納米技術領域的重要術語，具體含義和背景如下：
基本定義
nanolithography 由前綴nano-（意為“納米”，即十億分之一米）和lithography（平版印刷術）組成，指在納米尺度上進行圖案化或微結構加工的技術。它通過物理或化學手段在材料表面制造微小結構，廣泛應用于半導體芯片、納米器件等領域。
技術分類與翻譯
與普通光刻的區别
傳統lithography（光刻）多用于微米級圖案制作，而納米光刻的精度更高（通常小于100納米），需借助電子束、極紫外光等更精密手段。
應用領域
該技術對現代電子産業至關重要，例如：
補充說明
其德語拼寫為Nanolithographie，含義一緻。若需進一步了解具體工藝或設備，可參考半導體制造相關的專業文獻。
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