
莫爾條紋
A clear moire pattern is obtained only when the model is negligible.
僅當模型的雙折射效應可以忽略時,才能獲得清晰的波紋圖案。
Moire pattern: Undesirable pattern caused by incorrect relative screen Angle of two or more half-tone plates.
撞網圖案:兩塊或多塊半色調印版因相互的網線角度不配合而造成的不適當圖案。
The moire pattern is used to determine the strain on the horizontal section through the pinhole centre by displacement derivative method.
從位移的雲紋圖用位移導數法求得銷釘孔中心水平截面上的應變。
Moire pattern by the letter e evolved into the ****** and fashionable, revealed that brought by the traditional culture Chinese intimacy.
由字母“e”演變成的雲紋圖形簡單而時尚,透露着中國傳統文化所帶來的親切感。
A new method for measuring runner blades of hydraulic machine, known as the fine moire pattern, based on principle of optical interference is introduced.
本文介紹了一種利用光學幹涉原理檢測水力機械葉片的新方法,即密栅雲紋法。
莫爾條紋(Moire pattern)是一種由兩個周期性圖案疊加時産生的幹涉現象,表現為明暗交替或顔色變化的波紋狀視覺效果。其本質源于兩組規則結構的空間頻率差異,常見于紡織物、屏幕顯示、光學測量等領域。
當兩個具有相似空間頻率的網格、線條或點陣以一定角度重疊時,高頻成分相互抵消,低頻幹涉條紋顯現。這種現象可通過數學上的傅裡葉變換解釋:兩周期信號相乘産生差頻分量,形成肉眼可見的低頻波紋。
基礎模型可表示為: $$ I(x,y) = [1 + cos(2pi f_1 x)] cdot [1 + cos(2pi f_2 x)] $$ 展開後包含差頻項: $$ cos[2pi (f_1 - f_2)x] $$ 其中$f_1$、$f_2$為原始圖案的空間頻率。
(權威參考文獻:維基百科"Moiré pattern"詞條、OSA光學數據庫、R. C. Gonzalez《數字圖像處理》第3版)
Moire Pattern 的詳細解釋
Moire pattern(莫爾條紋/雲紋)是一種由兩個或多個周期性圖案疊加産生的幹涉現象,常見于印刷、光學、圖像處理等領域。以下是其核心含義及相關擴展:
如需更詳細的技術案例或公式推導,和中的工程應用說明。
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