英:/'lɪˈθɒɡrəfi/ 美:/'lɪˈθɑːɡrəfi/
n. [印刷] 平版印刷術，石印術
Lithography is a method of plate-****** printing.
平版印刷術是制版印刷方法的一種。
Lithography is the most widely used printing process in the world.
平版印刷是目前世界上應用最廣泛的印刷工藝。
Electron beam lithography is an extended application of lithography.
電子束曝光是光刻法的延伸應用。
The arts include calligraphy and lithography.
平面造型藝術包括書法和平版印刷術。
Nikon is also reversing its losses in lithography.
另外，尼康光刻機業務也開始扭虧為盈。
The graphic arts include calligraphy and lithography.
平面造型藝術包括書法和平版印刷術。
All these make a great improvement to quantum lithography.
因而是對量子光刻術的一個很大改進。
The sensor is fabricated by traditional lithography and etching.
制作采用的是傳統的光刻、刻蝕工藝。
electron beam lithography
電子束曝光；電子束蝕刻
optical lithography
光學平闆刻法，光學制版
Lithography（光刻）是一種關鍵的圖案轉移技術，主要用于在平面基材（如矽晶圓、金屬闆或紙張）上精确複制微細圖案。其核心原理是利用特定區域對化學物質或物理作用的敏感性差異來實現選擇性加工。根據應用領域不同，其含義和技術細節有所區别：
微電子制造中的光刻（Photolithography）
這是現代半導體芯片制造的核心工藝。它通過光學系統将掩模版（包含電路設計圖案）上的圖形投影到塗覆了光敏材料（光刻膠）的矽片上。經過曝光和顯影，光刻膠上形成三維浮雕圖案，作為後續刻蝕或離子注入的屏障。該技術持續突破分辨率極限，支撐了集成電路的持續微型化。其關鍵步驟包括塗膠、前烘、曝光、後烘、顯影和檢查。
來源：國際半導體産業協會（SEMI）技術文獻（https://www.semi.org/）
平版印刷術（Planographic Printing）
作為印刷術的一種，Lithography 基于油水不相容的原理。藝術家或印刷工人在平整的石闆（或金屬闆）上用油性介質繪制圖案，然後用水潤濕版面。油性圖案區域拒水親油墨，而濕潤的非圖案區域拒油墨。上墨後，圖案即可轉印到紙張上。這種技術曾廣泛用于藝術品複制和商業印刷。
來源：大英百科全書 "Lithography" 條目（https://www.britannica.com/technology/lithography）
技術演進與擴展
隨着技術發展，出現了多種先進光刻技術以滿足更高精度需求：
總而言之，Lithography 的本質是一種基于圖形化模闆進行表面選擇性處理的圖案轉移技術。在微電子領域，它特指通過光學曝光和光刻膠處理實現納米級電路圖形制造的關鍵制程；在傳統印刷領域，它指利用油水相斥原理在平面上進行印刷的方法。其核心價值在于能夠實現高精度、高效率的圖形複制與微納結構制造。
Lithography（平版印刷術）是一種印刷技術，其核心原理是利用油水相斥的特性，在平坦的表面上進行圖文複制。以下是詳細解釋：
Lithography不僅是傳統印刷術的基石，也是半導體制造的核心工藝。其核心邏輯始終圍繞“選擇性吸附”原理，適應從藝術創作到高科技産業的多樣化需求。
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