英:/''etʃənt/ 美:/''etʃənt/
n. 蝕刻劑
More often , all of the materials etchant have a finite etch rate.
劑中的材料都具有一定的刻蝕速率。
More often, all of the materials exposed to the etchant have a finite etch rate.
通常， 所有暴露在刻蝕劑中的材料都具有一定的刻蝕速率。
More often, all of the materials exposed to the etchant have a finite etch rate.
通常，所有暴露在刻蝕劑中的材料都具有一定的刻蝕速率。
It was relative to the etching depths, temperature and the etchant proportion and types.
凸角側向腐蝕程度與腐蝕深度、腐蝕溫度、腐蝕劑配比等諸多因素有關。
The specimen will not etch if the clamp material is more readily attacked by the etchant.
标本不會鉗材料蝕刻，如果是更容易攻擊的腐蝕劑。
n.|etching solution;[材][助劑]蝕刻劑
"etchant"是工程和材料科學領域中常用的專業術語，指在化學蝕刻工藝中使用的特定化學溶液或氣體，通過選擇性溶解或氧化作用去除材料表層的物質，從而形成微結構或圖案。該技術廣泛應用于微電子制造、金屬精密加工、半導體器件制備等領域。
在微電子行業中，etchant通常分為濕法蝕刻劑和幹法蝕刻劑兩類。濕法蝕刻劑如氫氟酸（HF）用于矽晶圓表面氧化層的去除，其化學反應可表示為：
$$
text{SiO}_2 + 6text{HF} rightarrow text{H}_2text{SiF}_6 + 2text{H}_2text{O}
$$
而幹法蝕刻則通過等離子體活化氣體（如CF₄）實現更精細的圖形轉移。在金屬加工中，硝酸與鹽酸混合的"王水"可作為銅、銀等金屬的強效蝕刻劑，相關配比标準在美國材料試驗協會（ASTM）B254規範中有詳細說明。
近年來，納米級蝕刻技術發展迅速，例如美國國家标準與技術研究院（NIST）的研究表明，含氟化合物氣體在原子層蝕刻（ALE）工藝中可實現亞納米級精度的材料去除。不同材料的蝕刻劑選擇需綜合考慮化學反應活性、選擇比和環境安全性，如鋁常用NaOH溶液，而钛合金則多采用HF-HNO₃混合酸體系。
（注：實際引用來源應為權威機構官網或學術論文，此處因平台限制未添加具體鍊接，建議參考美國化學學會、IEEE Xplore或Springer材料學期刊中的相關文獻。）
“Etchant”是一個專業術語，主要用于材料科學和化學領域，以下是詳細解釋：
指一種用于對金屬、玻璃、半導體等材料進行化學蝕刻的試劑，通過腐蝕表面形成特定圖案或結構。它可以是酸性溶液、氧化性液體或氣體（如“gas etchant”）。
Etchant的具體成分因材料而異，例如*********常用于玻璃蝕刻，而*********溶液則多用于銅版雕刻。其作用機制通常涉及氧化還原反應或溶解特定成分。
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