
【电】 electron trap
在电子工程与半导体物理领域,"电子陷阱"(Electron Trap)指半导体材料中能捕获并暂时束缚自由电子的缺陷能级或杂质态。其核心机制是晶体结构中的点缺陷(如空位、间隙原子)或杂质原子(如金属离子)在禁带内形成局域化能级,当自由电子落入这些能级后,会因能量壁垒无法快速逃逸,导致载流子迁移率下降,影响器件性能。
晶格空位(如硅中的V⁻中心)或间隙原子在禁带中引入深能级,成为电子捕获中心。例如,砷化镓(GaAs)中的砷空位可形成0.75 eV深度的电子陷阱。
重金属杂质(如金、铜)在硅中形成受主能级。金在硅禁带中0.54 eV处的能级可捕获导带电子,显著增加载流子复合率。
在MOS器件中,SiO₂/Si界面处的悬挂键(如Si≡Si₃)产生界面陷阱能级,导致阈值电压漂移和噪声增加。
陷阱通过肖克利-里德-霍尔(SRH)复合机制降低少数载流子寿命,公式为:
$$ tau = frac{1}{sigma v_{th} Nt} $$
其中(sigma)为捕获截面,(v{th})为热速度,(N_t)为陷阱浓度。
陷阱电荷散射效应使载流子迁移率下降,影响高频器件响应速度。
在功率器件中,电子陷阱积累引发热载流子注入(HCI),加速器件老化。
闪存(Flash Memory)通过浮栅中的电子陷阱实现数据存储,电荷保持时间可达10年。
采用区熔提纯法将硅中金杂质浓度降至10¹² cm⁻³以下,减少深能级陷阱。
在太阳能电池中,氢钝化处理可饱和Si/SiNₓ界面悬挂键,降低陷阱密度90%以上。
电子陷阱是半导体物理中的专业术语,指材料中能够俘获并暂时存储电子的缺陷能级。以下是详细解释:
电子陷阱是半导体禁带中由杂质或晶格缺陷形成的局域能级。这些能级对电子的俘获能力远强于空穴(或相反),导致载流子被“困住”而无法直接复合。例如,当电子被陷阱俘获后,需额外能量(如热能)激发回导带才能参与复合过程。
在非技术领域(如网络安全),“电子陷阱”可能指通过电子信息设置的诈骗手段(如钓鱼网站),但此含义与物理学术语无关。
如需进一步了解半导体中陷阱的分类(如深能级/浅能级陷阱),可参考、2的详细分析。
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