屏蔽距英文解释翻译、屏蔽距的近义词、反义词、例句
英语翻译：
【计】 mask pitch
分词翻译：
屏蔽的英语翻译：
screen; shield
【计】 mask; mask off; masking
【化】 shielding
距的英语翻译：
be apart from; distance
【医】 calcar; calcaria
专业解析
在电磁兼容（EMC）和电子工程领域，“屏蔽距”（Shielding Distance）指电磁波在屏蔽材料中传播时，其场强衰减到特定值（通常为初始值的1/e，约36.8%）所经过的距离。它反映了材料对电磁干扰（EMI）的衰减能力，是评估屏蔽效能的关键参数，计算公式为：
$$
delta = sqrt{frac{2}{omega mu sigma}}
$$
其中：
- $delta$ 为屏蔽距（趋肤深度），
- $omega$ 为角频率（$omega = 2pi f$，$f$为频率），
- $mu$ 为材料的磁导率，
- $sigma$ 为材料的电导率。
核心意义与应用：
- 衰减能力表征：屏蔽距越小，表明材料在更短距离内能显著衰减电磁波，屏蔽效能越高。例如，铜在高频下的屏蔽距极小，适合用于精密设备的电磁屏蔽。
- 材料选择依据：工程师需根据干扰频率选择材料。高频干扰（如GHz级）要求极小屏蔽距，常选用高导电率材料（银、铜）；低频场景可选用成本更低的材料（如钢）。
- 屏蔽结构设计：实际屏蔽体（如机箱、线缆屏蔽层）的厚度需大于屏蔽距才能有效阻隔电磁波。例如，1MHz电磁波在铜中的屏蔽距约0.066mm，设计时通常要求厚度≥3倍屏蔽距以达99%衰减。
影响因素：
- 频率：频率升高，屏蔽距减小（与$sqrt{f}$成反比）。
- 材料属性：高电导率（$sigma$）和高磁导率（$mu$）材料可减小屏蔽距。铁磁性材料因$mu$值高，低频屏蔽效能优于铜。
权威参考来源：
- IEEE Std 299.1（IEEE电磁屏蔽效能测量标准），定义屏蔽效能与材料参数关系。
- Electromagnetic Compatibility Engineering（Henry Ott），详解屏蔽距在EMC设计中的计算与应用。
- EMC Design Guide for PCB and Systems（Keith Armstrong），提供屏蔽距与厚度的工程实践关联。
网络扩展解释
“屏蔽距”是一个技术领域术语，其含义和用法如下：
基本解释
- 词义：指通过屏蔽手段（如物理阻隔或技术隔离）所保持的特定距离或间距。在计算机或电子工程中，可能涉及掩模设计、电磁屏蔽等场景。
- 英文翻译： 中提及对应术语为mask pitch，常见于集成电路制造或屏蔽结构设计中的间距参数。
技术背景
-
掩模设计（集成电路领域）：
“屏蔽距”可能指掩模版（mask）上图案之间的间距（pitch），用于确保电路元件间的物理隔离，防止信号干扰。
-
电磁屏蔽：
在电磁兼容性（EMC）设计中，屏蔽距可能表示屏蔽材料或结构（如屏蔽墙、屏蔽器）的有效隔离距离，以阻断电磁波传播。
应用场景
- 芯片制造：控制掩模版图案间距，避免电路短路或信号串扰。
- 电子设备：设计屏蔽罩时，需计算元件与屏蔽层的最小距离（屏蔽距）以优化性能。
补充说明
若需更具体的工程参数（如公式或行业标准），建议结合具体领域（如半导体、通信）进一步查询专业资料。
分类
ABCDEFGHIJKLMNOPQRSTUVWXYZ
别人正在浏览...
【别人正在浏览】
