disilicide是什么意思，disilicide的意思翻译、用法、同义词、例句

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专业解析

Disilicide（二硅化物）指的是一类由金属元素与硅元素按特定比例组成的化合物，其化学通式通常为M-Si₂，其中 M 代表金属元素。这类化合物在材料科学和半导体工业中具有重要地位。

核心特性与应用：

1. 化学组成与结构： 二硅化物是金属硅化物（Metal Silicides）家族中的重要成员。其名称中的 "di-" 表示每个金属原子对应两个硅原子（Si:M = 2:1）。它们通常具有特定的晶体结构，如四方晶系的 C11b 结构（如 MoSi₂、WSi₂）或六方晶系的 C40 结构（如 TaSi₂、NbSi₂），这些结构赋予了它们独特的物理化学性质。
2. 低电阻率： 许多过渡金属的二硅化物（如 TiSi₂、CoSi₂、NiSi₂）具有相对较低的电阻率（通常在 15-50 μΩ·cm 范围）。这一特性使其非常适合作为集成电路中的局部互连材料 和栅极接触材料，用于连接晶体管的不同部分或降低接触电阻，提升器件性能和集成度。
3. 高温稳定性： 某些二硅化物，特别是 MoSi₂ 和 WSi₂，具有极高的熔点和优异的高温抗氧化能力（形成保护性的 SiO₂ 层）。这使得它们被广泛用作高温结构材料（如燃气轮机叶片涂层、高温加热元件）和集成电路制造中的高温稳定电极/互连。
4. 硅工艺兼容性： 二硅化物可以通过金属薄膜与硅基底在适当温度下进行固态反应（称为硅化反应）形成。这种工艺与标准的硅基集成电路制造工艺兼容，易于集成。
5. 其他应用： 除了微电子和高温应用，二硅化物在热电材料（如 MnSi₂）、耐磨涂层、扩散阻挡层等领域也有研究价值和应用潜力。

Disilicide 特指化学式为 M-Si₂ 的金属硅化物化合物。它们因其低电阻率（在微电子互连中应用）、优异的高温稳定性与抗氧化性（在高温结构材料中应用）以及与硅工艺的良好兼容性，成为现代半导体技术和高温工程材料领域的关键物质。其中，TiSi₂、CoSi₂、NiSi₂ 在集成电路中扮演重要角色，而 MoSi₂、WSi₂ 则在高温环境下表现突出。

来源参考：

• 定义与基本特性：根据材料科学与固态化学领域共识。
• 微电子应用（低电阻率、互连、接触）：参考半导体器件物理与制造工艺标准教材，如 S. M. Sze 的著作《Physics of Semiconductor Devices》或《VLSI Technology》。
• 高温应用（MoSi₂, WSi₂）：参考高温材料或陶瓷材料领域的权威文献，如《Journal of the American Ceramic Society》或《Materials Science and Engineering》期刊上的相关综述。
• 硅化反应与工艺兼容性：参考集成电路制造技术手册，如《Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology》。

网络扩展资料

根据权威词典解释，disilicide（发音：英/daɪˈsɪlɪsaɪd/，美/daɪˈsɪlɪsaɪd/）是化学领域中的专业术语，具体含义如下：

1. 基本定义
   指由两种元素组成的化合物，其中包含两个硅原子与另一种金属元素结合，化学通式通常为MSi₂（M代表金属元素）。例如钼二硅化物（MoSi₂）是常见类型。

2. 中文译名与使用场景
   中文译为“二硅化物”（或旧称“二矽化物”），主要用于电子学领域，如半导体材料、集成电路中的导电层或高温抗氧化涂层。

3. 特性与用途
   这类化合物通常具备高熔点、优异导电性和耐腐蚀性，因此在高温元件、电阻器及微电子器件制造中应用广泛。例如，MoSi₂在高温下仍能保持稳定性，常用于加热元件。

4. 补充说明
   在化学命名中，“di-”表示“两个”，而“silicide”指“硅化物”，因此该词直译为“含两个硅原子的化合物”。类似结构还有monosilicide（一硅化物）和trisilicide（三硅化物）。

如需更详细的化学性质或具体应用案例，建议通过专业材料科学文献进一步查询。

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