高頻火花離子源英文解釋翻譯、高頻火花離子源的近義詞、反義詞、例句

英語翻譯：

【化】 high frequency spark ion source

分詞翻譯：

高頻的英語翻譯：

high frequency
【電】 hf; high frequency

火花的英語翻譯：

light; scintilla; spark; sparkle
【醫】 spark

離子源的英語翻譯：

【化】 ion source
【醫】 source ion

專業解析

高頻火花離子源（High-Frequency Spark Ion Source）

1.術語解析

高頻（High-Frequency）：指工作頻率在千赫茲（kHz）至兆赫茲（MHz）範圍的交流電，通過快速交變電場激發放電。
火花（Spark）：電極間高壓擊穿氣體産生的瞬态等離子體，溫度可達 (10 - 10text{K})，能剝離樣品原子中的電子。
離子源（Ion Source）：将中性原子或分子電離為帶電離子的裝置，用于質譜分析等科學儀器。

2.英文對應術語

英文直譯為"High-Frequency Spark Ion Source"，縮寫為HFSIS。其核心功能是通過高頻脈沖放電産生高能離子束，適用于固體樣本的快速元素分析。

3.工作原理

在兩電極（通常為待測樣品與純金屬對電極）間施加15–30 kV 高頻脈沖電壓，電極間隙（約 0.1–0.5 mm）的氣體被擊穿，形成高溫等離子體。樣品表面物質被濺射并電離，生成正離子（如 (text{M}^+)、(text{M}^{2+}))，經電場加速後進入質譜儀分析。

4.應用場景

主要用于金屬合金、地質礦物及半導體材料的痕量元素檢測，優勢在于：

可分析導電固體，無需複雜預處理；
檢出限低至 ( text{ppm} )（百萬分之一）級；
支持多元素同步分析（如鋼鐵中的 Cr、Ni、Mn）。

5.技術特點

脈沖穩定性：高頻調制減少電極燒蝕，延長壽命；
離子産率：單脈沖可産生 (10 - 10^{12}) 個離子；
分辨率：質譜峰半高寬（FWHM）約 (0.01 - 0.05text{amu})，適合同位素分析。

權威參考來源

（注：鍊接為示例格式，實際引用需替換為真實有效來源。）

網絡擴展解釋

高頻火花離子源是一種用于質譜分析的離子化裝置，主要通過高頻火花放電使固體樣品電離，適用于無機成分分析。以下是其核心要點：

1.定義與基本原理

高頻火花離子源利用高頻電壓（通常為10⁶–10⁸ Hz）在樣品電極與參考電極之間産生脈沖式火花放電，使樣品表面瞬間蒸發并電離，生成多種電荷态的離子。其能量分散較大（約10³ eV），需配合雙聚焦質量分析器使用。

2.結構特點

電極設計：由樣品電極和參考電極構成，樣品可直接作為電極材料。
放電方式：通過高頻電場引發火花放電，産生高密度等離子體。
離子收集：通常采用積分測量法處理脈動離子流。

3.應用領域

固體樣品分析：特别適用于金屬、礦物等無機材料的成分檢測，幾乎可分析所有元素。
半定量分析：因各元素電離效率差異小（不超過3倍），無需複雜校正即可獲得半定量結果。

4.優缺點

優點：靈敏度高、選擇效應小、結構簡單。
缺點：離子能量分散大，需雙聚焦系統；離子流不穩定，依賴積分測量。

5.與其他離子源的對比

高頻火花離子源與普通高頻離子源（如氣體放電型）不同，後者多用于生成低電荷态離子（如正/負離子源），且通過電感或電容耦合産生等離子體。

如需進一步了解技術細節或具體應用案例，可參考、3、7的原始資料。