
【化】 contact gold-plating
contact; contiguity; get in touch with; meet; osculate; osculation; tangency
touch
【醫】 c.; contact; contiguity; hapt-; hapto-; per contiguum; taction; tactus
touch
gild; gilt; plate
【計】 gilding
【化】 gold plating
接觸鍍金(Contact Plating)是電子制造領域中的關鍵表面處理工藝,指通過物理或化學方式在連接器觸點表面沉積微米級金層。該技術可降低接觸電阻并提升抗氧化能力,廣泛應用于高可靠性要求的電子元件接點處理。
根據IPC-4552B國際标準,接觸鍍金層厚度需控制在0.05-0.76μm範圍内,其工藝可分為兩類:
美國材料與試驗協會(ASTM B488)指出,鍍金層的純度需達到99.7%以上,孔隙率不得超過2個/cm²。中國國家标準GB/T 9797-2022《金屬覆蓋層 金及金合金電鍍層》明确規定了鍍層的耐磨性測試方法。
該技術能有效防止銅基材氧化,保持信號傳輸穩定性。國際電氣電子工程師學會(IEEE)研究顯示,0.1μm金鍍層可使連接器接觸電阻降低至0.5mΩ以下(IEEE Transactions on Components and Packaging Technologies, Vol.28 No.3)。
“接觸鍍金”這一術語在現有資料中未明确提及,但結合鍍金工藝的分類和技術特點,可以推斷其可能指代以下兩種含義:
化學鍍金(無電鍍)
指通過化學反應而非電流作用,使金離子與基材表面直接接觸并沉積成鍍層。這種工藝常用于複雜形狀的物件,例如電子元件觸點()。其特點是鍍層均勻且附着力強,但成本較高。
電鍍中的接觸法
在傳統電鍍過程中,若基材(如銅、銀)與鍍液中的金直接接觸,通過電解反應形成鍍層。此類工藝需控制電壓和接觸時間,以确保鍍層厚度達标(國家規定鍍金層≥0.5微米,見)。
“接觸鍍金”也可能被引申為短期實踐或淺層學習,例如:
若需進一步了解具體工藝參數或行業标準,可參考(金投網)或(婚禮紀)的詳細說明。
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