metallizer是什麼意思，metallizer的意思翻譯、用法、同義詞、例句
常用詞典
噴鍍金屬器
金屬粉末
專業解析
metallizer（金屬化設備/鍍膜機）是一種在真空環境下，通過物理或化學方法将金屬材料沉積到基材（如塑料薄膜、玻璃、半導體晶圓等）表面的專用設備。其核心功能是實現材料的金屬化，賦予基材金屬特性（如導電性、反光性、電磁屏蔽性、裝飾性等），廣泛應用于電子、包裝、光伏、光學等領域。
詳細解釋與原理
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工藝原理：
- 在高度真空的腔室内，通過加熱（蒸發）、濺射（離子轟擊）或等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）等方式，使金屬源（鋁、銀、銅等）氣化或電離。
- 金屬原子或離子在電場或熱能驅動下，均勻附着在基材表面形成納米至微米級的金屬薄膜。此過程需精确控制溫度、真空度、沉積速率等參數，以确保薄膜的均勻性與附着力。來源：工業标準術語與真空鍍膜技術原理。
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核心應用領域：
- 包裝行業：生産金屬化薄膜（如鍍鋁膜），用于食品包裝（薯片袋、咖啡袋）、禮品包裝等，提升阻隔性（防潮、隔氧）和美觀度。
- 電子與光伏：制造柔性電路、薄膜電容器、太陽能電池背電極（如PERC電池的鋁背場），通過金屬化實現導電功能。
- 光學器件：鍍制反光膜（燈具反射罩）、透明導電膜（ITO薄膜用于觸摸屏）。
- 裝飾與防僞：在塑料件、陶瓷表面鍍金屬層，用于汽車裝飾、商标防僞标籤等。來源：行業應用報告與技術白皮書。
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技術分類：
- 蒸發式鍍膜機（Thermal Evaporation）：通過電阻加熱或電子束轟擊使金屬熔化蒸發，成本低但薄膜均勻性較差。
- 磁控濺射鍍膜機（Magnetron Sputtering）：利用等離子體轟擊金屬靶材，濺射出的原子沉積于基材，薄膜緻密且附着力強，適用于高性能需求。
- 化學氣相沉積（CVD）設備：通過氣相化學反應生成金屬膜，適合複雜形狀基材的均勻鍍膜。來源：材料表面工程學術文獻。
權威定義參考
根據國際标準與行業規範：
"Metallizer" refers to industrial equipment designed for depositing thin metallic coatings onto substrates via vacuum deposition techniques, enabling functional or decorative surface modification.
（來源：Society of Vacuum Coaters 技術手冊）
建議進一步查閱專業文獻（如《Thin Film Materials Technology》或《真空鍍膜技術與應用》）以獲取深度技術細節。
網絡擴展資料
“Metallizer”是動詞“metallize”（金屬化處理）的名詞形式，通常指代執行金屬化處理的設備、工具或物質。以下是詳細解釋：
核心含義
- 詞源構成：由動詞“metallize”（給物體覆蓋金屬層）加後綴“-er”構成，表示執行該動作的主體或工具。
- 基本定義：指用于在物體表面形成金屬塗層的裝置、化學試劑或工藝方法。
應用場景
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工業制造
- 用于噴鍍金屬的設備，如在電子元件表面形成導電層（如提到的化學鍍鎳法）。
- 在複合材料表面金屬化處理中，可能涉及電鍍或真空鍍膜設備（參考的環氧樹脂基材料案例）。
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紡織領域
- 指通過塗覆金屬薄膜（如鋁、銅）使面料具有金屬光澤和功能的工藝（如提到的“metallized面料”）。
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材料科學
- 可能指金屬化處理所需的化學試劑，如催化金屬沉積的溶液。
相關術語
- Metallizing（金屬化）：指具體的處理過程，如噴鍍、電鍍或真空沉積（）。
- Metallized（金屬化的）：描述經過處理後的物體狀态，如導電性、反光性增強（）。
補充說明
- 技術特點：金屬化處理可提升材料的導電性、耐腐蝕性或裝飾性（、2）。
- 常見形式：包括物理氣相沉積（PVD）、化學鍍、噴塗金屬粉末等。
如果需要更具體的設備或工藝示例，建議參考工業制造或材料科學領域的專業文獻。
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