n. [電子] 雙等離子管
The production of several kinds of intense beam and their characteristics of beam extraction from the duoplasmatron source are stu***d.
本文研究了利用雙等離子源産生多種離子束以及它們的束流引出特性。
"duoplasmatron"是一個科技領域的專業術語，其含義和應用可總結如下：
該詞指代一種雙等離子體裝置（雙等離子管），主要用于産生高密度的離子束。其名稱由三部分構成：
在工業與科研中，它常作為離子源使用（duoplasmatron ion source），通過兩個等離子體區域的協同作用，能産生高強度的離子束流。典型應用場景包括：
| 發音類型 | 國際音标 |
|---|---|
| 英式發音 | [dju:əʊ'plæzmətrɒn] |
| 美式發音 | [dju:oʊ'plæzmətrɒn] |
部分資料存在拼寫變體（如duaplasmatron），建議在專業文獻中優先使用duoplasmatron的标準拼寫。由于該術語高度專業化，理解時需結合具體上下文語境。
如需更詳細的技術參數，可參考《等離子體物理設備手冊》或IEEE相關論文。
詞性： 名詞
發音： [doo-oh-plaz-muh-tron]
定義： Duoplasmatron是一種用于産生高能離子束的離子源。它包括兩個放電極，這些放電極由電流驅動，以産生等離子體。這些等離子體被加速後，形成一個高能離子束。
用法： 這種離子源被廣泛應用于材料表面改性、納米材料制備、等離子體蝕刻、等離子體增強化學氣相沉積等領域。
例句：
解釋： Duoplasmatron是一種離子源，用于産生高能離子束。它由兩個放電極組成，這些放電極由電流驅動，産生等離子體，然後通過*********形成一個高能離子束。這種離子源被廣泛應用于材料表面改性、納米材料制備、等離子體蝕刻、等離子體增強化學氣相沉積等領域。
近義詞： 無
反義詞： 無
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