立方氮化硼
In addition, a brief outlook of the optical application of cubic boron nitride is also presented.
另外還對立方氮化硼薄膜的光學應用作了展望。
This paper focuses mainly on the characteristics and its application of PCBN (Polycrystalline Cubic Boron Nitride) tool.
主要介紹了PCBN（聚晶立方氮化硼）刀具的基本特性及其應用技術。
This paper has a ****** introduction on the metal bonds and the composites of metal and superhard materials(diamond and cubic boron nitride).
主要對常用的金屬結合劑和金屬複合超硬材料（ 金剛石、 立方氮化硼）材料做了簡單的介紹和描述。
High quality cubic boron nitride (c BN) films were synthesized in lab built magnetically enhanced active reaction evaporation system with pulsed DC bias.
采用自行研制的磁增強活性反應離子鍍系統，在脈沖偏壓條件下成功地合成了高品質立方氮化硼(c BN)薄膜。
The preparation and properties study of cubic boron nitride thin films are attractive and also very difficult to international scientific wold for recent years.
近幾年來，立方氮化硼薄膜的制備和性質研究一直是國際上的研究熱點之一，同時又是難點之一。
立方氮化硼（Cubic Boron Nitride，簡稱CBN）是由硼和氮元素通過化學鍵結合形成的人工合成超硬材料，其晶體結構為立方晶系，與金剛石的晶體結構類似。該材料最早由美國通用電氣公司于1957年通過高溫高壓法合成，現已成為現代工業中重要的工程材料之一。
在物理性質方面，立方氮化硼的顯微硬度達到8000-9000 HV，僅次于金剛石，但其熱穩定性顯著優于金剛石，在1200℃高溫環境下仍能保持穩定性能。這種特性源于其強共價鍵結構和寬禁帶半導體特性，禁帶寬度約6.4 eV，使其在高溫、強腐蝕環境下具有優異表現。
工業應用主要集中于精密加工領域，包括：
根據《先進材料科學與工程》期刊的最新研究，通過化學氣相沉積法可制備納米晶立方氮化硼薄膜，其摩擦系數低至0.05，在微機電系統領域展現出重要應用價值。美國材料試驗協會（ASTM）制定的CBN材料檢測标準（ASTM B887-20）則為其工業應用提供了權威的質量控制依據。
立方氮化硼（Cubic Boron Nitride，縮寫為CBN或cBN）是一種人工合成的高性能材料，其含義和特性可歸納如下：
立方氮化硼是氮化硼（Boron Nitride）的立方晶型，由硼和氮原子以類似金剛石的立方晶體結構排列而成。其英文名稱中的“cubic”即指這種三維立方對稱結構，區别于六方氮化硼（h-BN）的層狀結構。
自然界中尚未發現天然存在的立方氮化硼，完全依賴實驗室或工業合成（如高溫高壓法）。盡管有研究稱2009年在自然界中發現，但這一說法權威性較低。
金剛石在高溫下會與鐵發生反應，而CBN因化學惰性更適合加工鋼材，且熱穩定性更優。
如需進一步了解合成工藝或具體應用案例，可參考材料科學領域的專業文獻或權威工業報告。
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