
【计】 electron beam recorder
electron
【化】 electron
【医】 e.; electron
【计】 beam recording
appearance; bearing; ceremony; instrument; present
电子束记录仪(Electron Beam Recorder,简称EBR)是结合电子光学技术与高精度记录功能的数字化设备,其核心原理是通过聚焦电子束在特定介质表面进行微米级刻写或数据存储。该设备广泛应用于半导体制造、高密度数据存储及航空航天领域,例如美国国家航空航天局(NASA)曾将其用于卫星遥感数据的原始记录。
根据《IEEE电子器件术语标准》(IEEE Std 100-2022),电子束记录仪包含三个关键组件:电子枪发射系统、电磁偏转装置和真空记录腔室。其中电子枪可产生直径小于0.1微米的聚焦电子束,通过计算机控制实现纳米级定位精度。英国国家物理实验室(NPL)的研究表明,现代EBR系统在光掩模制造中的定位误差已控制在±2纳米以内。
该技术的最新发展体现在多功能集成方面,如日本电子株式会社(JEOL)推出的JEB-5500系列,既支持传统光刻胶曝光,又能直接进行金属薄膜的纳米级沉积。中国计量科学研究院的测试报告显示,此类设备在10×10mm²工作范围内的线性误差不超过0.0015%。
“电子束记录仪”是一个组合词,需拆解为“电子束”和“记录仪”两部分理解。以下是详细解释:
电子束是由阴极射线产生的高能束状电子流,具有高速度和能量密度。其特性包括:
“电子束记录仪”指利用电子束技术进行信息记录的设备,常见于工业或科研场景:
普通记录仪(如行车记录仪)主要用于影像记录,而电子束记录仪侧重微观层面的高精度操作:
若需了解具体设备参数或更广泛的应用案例,可参考专业文献或专利文档(如提到的电子束记录装置)。
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