
【化】 porous chromium (electro)plating
多孔性电镀铬(Porous Chromium Electroplating)是一种通过电化学沉积工艺在金属表面形成具有微孔结构的铬镀层技术。该工艺在传统硬铬电镀基础上,通过特殊电解参数或添加造孔剂,使镀层形成均匀分布的微小孔隙,孔隙率通常为20%-40%[1]。其英文术语在《材料表面处理技术标准手册》中被规范为"Porous Chrome Plating"或"Microporous Chromium Coating"。
该技术具有三个核心特性:
主要应用领域包括:
根据中国机械工程学会表面工程分会2023年发布的《先进电镀技术白皮书》,该技术在国内重型装备制造领域的应用覆盖率已达67%,工艺参数优化方案可参考《电镀与涂饰》期刊2024年第3期发表的实验数据。
多孔性电镀铬是一种特殊的电镀铬工艺,其镀层表面具有均匀分布的微小孔隙结构。这种结构设计通常用于改善零件在摩擦环境中的润滑性能或增强表面功能性。以下是具体解释:
多孔性电镀铬属于功能性电镀铬的一种,通过调整电镀工艺参数(如电流密度、电解液成分等),在镀层中形成可控的孔隙。这些孔隙可储存润滑油,减少摩擦磨损,常见于高负荷、高摩擦场景。
普通镀铬侧重表面光洁度或硬度提升,而多孔性镀铬通过结构设计实现功能性优化,属于细分工艺。
如需进一步了解电镀铬的化学原理或具体工艺参数,可参考专业材料科学文献或行业标准。
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