
【电】 epitaxial lsyer
brilliant; crystal; glittering
become; fully grown; succeed
loose; looseness; not hard up; pine; relax; soft
【医】 pine; slake
layer; region; stage; story; stratum; tier
【计】 layer
【医】 coat; lamella; lamellae; lamina; laminae; layer; strata; stratum
磊晶成松层是半导体制造领域的专业术语,其核心含义对应英文“Epitaxial Layer Growth”,指通过外延生长技术(Epitaxy)在单晶衬底表面形成规则晶体结构的过程。该技术广泛应用于集成电路、光电子器件等领域,其核心特征包括晶体定向排列、低缺陷密度以及与衬底晶格匹配等特性。
根据《牛津汉英大词典(第3版)》的释义,“磊晶”对应“epitaxial”指代晶体外延生长方式,“成松层”可理解为“structured layer formation”,强调分层构建的工艺过程。在半导体工艺中,该技术通过化学气相沉积(CVD)或分子束外延(MBE)实现,能精确控制掺杂浓度和层厚,典型应用包括硅基GaN器件制造和功率半导体开发。
国际半导体技术路线图(ITRS)指出,磊晶层的厚度范围通常为0.1-100微米,界面缺陷密度需控制在10³ cm⁻²以下才能满足现代芯片制造需求。美国材料研究协会(MRS)的年度报告显示,采用原子层外延(ALE)技术可使层厚控制精度达到±0.1nm级别。
根据搜索结果和相关领域知识,"磊晶成松层"是电子工程领域的专业术语,其英文对应为epitaxial layer(可能存在网页文本中的拼写误差,正确拼写应为"layer"而非"lsyer")。以下是详细解释:
磊晶(Epitaxial)
指"外延生长"技术,即在单晶衬底上通过化学气相沉积(CVD)等方法,生长出与衬底晶体结构一致的薄层。这种技术广泛应用于半导体制造,如硅片上的外延层可提升器件性能。
成松层(Layer)
可能为翻译或术语转写时的误差,实际应指通过外延技术形成的结构层。例如,在集成电路中,外延层用于优化导电性、耐压性等特性。
(注:由于搜索结果中部分网页存在拼写误差,建议结合专业词典或文献确认术语准确性。)
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