
n. 外附结晶;外延生长
Epitaxis(正确拼写应为epitaxy)是材料科学和半导体领域中的专业术语,指在单晶衬底上按特定晶格取向生长另一层单晶薄膜的过程。该技术广泛应用于半导体器件、光电子元件和纳米材料的制备,确保晶体结构的连续性和低缺陷率[来源:International Union of Pure and Applied Chemistry (IUPAC)]。
同质外延(Homoepitaxy)
衬底与外延层为同种材料,例如在硅衬底上生长硅薄膜,用于优化材料表面性能[来源:Materials Science Textbook, Springer Nature]。
异质外延(Heteroepitaxy)
衬底与外延层材料不同,如蓝宝石衬底上生长氮化镓(GaN),需通过晶格匹配减少界面缺陷[来源:Journal of Applied Physics, AIP Publishing]。
在超高真空环境中通过原子束逐层沉积,精度可达原子级别,适用于量子阱结构的制备[来源:ScienceDirect数据库]。
通过气相化学反应生成薄膜,常用于大规模生产碳化硅(SiC)等高温半导体材料[来源:IEEE Xplore文献库]。
外延技术是制造LED、激光二极管、高电子迁移率晶体管(HEMT)的核心工艺,直接决定器件的电学与光学性能[来源:Nature Electronics期刊]。
根据您的查询,“epitaxis”可能是一个拼写错误。正确的医学术语应为epistaxis,指“鼻出血”。以下是详细解释:
Epistaxis(鼻出血)是鼻腔内血管破裂导致的出血现象,常见于单侧鼻孔,可能由局部或全身因素引发。
若您遇到持续性鼻出血或伴随头晕、面色苍白等症状,建议及时就医检查。
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