
【計】 electron mobility
電子遷移率(Electron Mobility)是半導體物理學中的核心參數,用于描述材料内電子在外加電場作用下的定向運動能力。其定義為:單位電場強度下電子的平均漂移速度,計算公式為
$$
mu = frac{v_d}{E}
$$
其中,$mu$為遷移率(單位:cm²/(V·s)),$v_d$為電子平均漂移速度,$E$為電場強度。
在半導體器件設計中,電子遷移率直接影響材料的導電性能。例如,高電子遷移率晶體管(HEMT)利用氮化镓/砷化镓異質結的高遷移率特性提升高頻電路效率。根據中國半導體行業協會2024年技術白皮書,矽材料的室溫電子遷移率約為1500 cm²/(V·s),而碳化矽可達900 cm²/(V·s),氮化镓則高達2000 cm²/(V·s)。
該參數受晶格散射、雜質濃度和溫度影響顯著。美國國家标準技術研究院(NIST)實驗表明,純矽在低溫(77K)下電子遷移率可增加至約10⁴ cm²/(V·s)。國際純粹與應用物理學聯合會(IUPAP)将電子遷移率列為半導體材料性能評估的A類指标,其測量通常通過霍爾效應實驗完成。
電子遷移率(Electron Mobility)是衡量半導體或導體材料中電子在外加電場作用下運動效率的物理量,定義為電子平均漂移速度與電場強度的比值。其公式為:
$$ mu = frac{v_d}{E} $$
其中:
材料依賴性
不同材料的電子遷移率差異顯著。例如:
溫度影響
溫度升高會加劇晶格振動,導緻電子與晶格碰撞(聲子散射)增多,遷移率下降。
雜質與缺陷
材料中的雜質或晶格缺陷會引發散射效應,降低遷移率。高純度單晶材料通常具有更高遷移率。
簡而言之,電子遷移率是評估材料導電性能的關鍵參數,直接關聯電子器件的效率與速度。
遍曆表表控輸入表踩踏電慣性分餾的附加物的固有電容含硼砂的互惠性條款混合抵押品監察會鑒定成本尖牙街靜止精制過的氣體抗朦片兩性反應聯合王國零花馬方氏法毛地黃糖批次産品完工平方律解調器生理堿性肥料隨機順序訪問聽覺心理區同溫層電視廣播丸劑闆