
【化】 deposition potential
sediment
【化】 deposition
【醫】 deposit; sedimentation; sludging
【化】 electric potential
【醫】 potential
在電化學領域,沉積電勢(Deposition Potential)是指将特定金屬離子從其溶液中電化學還原并沉積到電極(陰極)表面時,所需施加的最小電極電勢。該電勢值決定了金屬離子能否克服能壘發生還原反應,是控制電沉積過程的關鍵參數。
以下是其核心含義的詳細解釋:
電化學還原的驅動力
沉積電勢代表了驅動金屬陽離子(如 Cu²⁺、Ni²⁺)在陰極接受電子、還原為金屬原子(如 Cu、Ni)并沉積所需的最低能量(以電勢形式表示)。隻有當陰極電勢被施加到比該金屬的沉積電勢更負(或對于陽極過程是更正)的值時,沉積反應才能以可觀測的速率發生。
與平衡電勢的關系
理論上,沉積電勢與金屬的平衡電極電勢(由能斯特方程決定)密切相關。但在實際沉積過程中,由于存在過電勢(η),實際所需的沉積電勢通常比平衡電勢更負(對于還原反應)。過電勢用于克服反應活化能壘和濃度極化等因素。
公式表示:
$$
E{dep} = E{eq} - eta_{c}
$$
其中:
影響因素
測量與應用
沉積電勢通常通過循環伏安法或計時安培法等電化學技術測定。在電鍍、電鑄、電解精煉等工業應用中,精确控制陰極電勢在略高于(更負于)目标金屬的沉積電勢是獲得緻密、均勻、附着良好的金屬鍍層的關鍵。若電勢過負,可能導緻析氫副反應或形成粗糙、樹枝狀的沉積層。
權威參考來源:
沉積電勢(Deposition Potential)通常指在電化學沉積過程中,為使物質在電極表面沉積所需施加的電勢差。這一概念與電化學中的電極反應密切相關,主要用于描述金屬離子或其他物質在電極表面還原并形成沉積層所需的臨界電勢值。以下是具體解釋:
沉積電勢是電化學中的一個關鍵參數,表示在特定條件下(如溶液成分、溫度等),物質開始沉積到電極表面時的最低電勢。當施加的電勢高于或等于該值時,溶液中的離子(如金屬陽離子)會被還原為固态物質并沉積在電極表面。
在膠體化學中,“沉積電勢”有時也指膠體顆粒因表面電荷在沉積過程中形成的電勢差(類似zeta電勢),但這一用法較少見。若需更專業的電化學參數計算或實驗條件,建議參考電化學教材或相關行業标準。
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