冷等离子体英文解释翻译、冷等离子体的近义词、反义词、例句

英语翻译：

【化】 cold plasma

分词翻译：

冷的英语翻译：

cold; cold in manner; shot from hiding
【医】 algor; cry-; crymo-; cryo-; krymo-; kryo-; psychro-

等离子体的英语翻译：

【化】 plasma

专业解析

冷等离子体（Cold Plasma），又称非平衡等离子体（Non-equilibrium Plasma），是等离子体物理学中的一个重要概念。从汉英词典角度可作如下详细解释：

一、术语定义

中文：冷等离子体

指电子温度（T~e~）远高于离子和中性粒子温度（T~i~ ≈ T~g~）的等离子体状态。其典型特征为：

电子能量较高（通常1–10 eV，相当于数万开尔文）
背景气体保持低温（接近室温）
整体系统处于非热力学平衡态

英文：Cold Plasma

Defined as a partially ionized gas where electrons are highly energetic (with temperatures of 10⁴–10⁵ K), while heavy particles (ions, neutrals) remain near ambient temperature, enabling low-temperature applications .

二、核心特性

能量选择性
电子通过电场加速获得动能，与中性粒子碰撞概率低，能量传递效率低，形成“冷”效应（来源：《等离子体科学技术词典》，科学出版社）。
非平衡性
满足关系式：T~e~ ≫ T~i~ ≈ T~g~

其中 T~e~ 为电子温度，T~i~ 为离子温度，T~g~ 为气体温度（来源：国家标准《GB/T 4960-2010 核科学技术术语》）。

三、与热等离子体的区别

参数	冷等离子体	热等离子体
热平衡状态	非平衡态	局部热平衡态
电子温度	10⁴–10⁵ K	≈10⁴ K
气体温度	300–2000 K	5000–20000 K
应用领域	材料表面改性、生物医学	焊接、切割、喷涂

四、典型应用场景

材料表面处理
通过辉光放电产生冷等离子体，对聚合物表面进行亲水性改性（来源：《材料表面等离子体改性技术》，化学工业出版社）。
医疗器械灭菌
低温特性使其可用于不耐热医疗器械的杀菌，如内窥镜消毒（来源：中国食品药品检定研究院《医疗设备灭菌技术指南》）。
薄膜沉积工艺
在半导体制造中用于化学气相沉积（CVD），避免高温损伤基材（来源：《微电子工艺基础》，清华大学出版社）。

权威参考来源：

《汉英综合科技词典》科学出版社
《等离子体物理学导论》 Chen F.F., Springer
国际等离子体化学学会（ISPC）技术报告
中国科学院等离子体物理研究所公开研究文献

网络扩展解释

冷等离子体是等离子体的一种特殊状态，具有以下核心特征和应用：

一、基本定义

冷等离子体属于低温等离子体范畴，其特点是重粒子（分子、原子、离子）温度接近室温，而电子温度极高（可达10²–10⁵K），整体处于非热力学平衡态。这种温度差异使其在保持环境温度的同时，仍能通过高能电子驱动化学反应。

二、关键特性

非平衡性：电子与重粒子间能量传递效率低，形成“冷背景+高能电子”的特殊体系。
高化学活性：自由电子能打断化学键，促进材料表面改性或污染物分解。
低能耗优势：无需整体加热即可激活反应，适合热敏感材料处理。

三、产生方式

主要通过低压放电技术实现，包括：

辉光放电（直流/交流）
射频放电（13.56MHz）
微波放电（2.45GHz）这些方法通过电场加速电子，而重粒子因质量大难以被加速，从而维持低温状态。

四、应用领域

领域	典型应用	作用机制
材料科学	表面清洗、涂层沉积	高能电子引发表面反应
环境治理	废气处理、VOCs分解	电子轰击破坏污染物分子结构
生物医学	医疗器械消毒、创面处理	活性粒子杀灭微生物
电子工业	半导体刻蚀、显示屏制造	精准控制材料去除

五、理论模型补充

在物理研究中，冷等离子体模型常被简化为零温近似，用于分析热效应可忽略的过程（如特定电磁波传播）。这种理论处理方式与实际低温特性形成互补解释。

（注：更多技术细节可参考、3、7等来源）